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18922517093光學膜厚儀OMD-1000的運用范圍
典型應用領(lǐng)域
半導體制造業(yè)，光刻膠、氧化物、硅或其他半導體膜層的厚度測量。
生物醫(yī)學原件：聚合物/聚對二甲苯；生物膜/球囊壁厚度；植入藥物涂層。
微電子：光刻膠；硅膜；氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡
液晶顯示器：盒厚；聚酰亞胺；導電透明膜
由于是光學測量，在測量時候無須擔心破壞樣品，讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學常數(shù)，通過對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析，幾秒鐘內(nèi)就可測量結(jié)果。
這是一種光譜膜厚監(jiān)測儀，可監(jiān)測在氣相沉積過程中用單色光在基板上產(chǎn)生的光量變化。它也用在我們自己的薄膜沉積設(shè)備中，并作為膜厚監(jiān)測設(shè)備完成，該設(shè)備具有氣相沉積零件制造商的專業(yè)知識。
在傳統(tǒng)型號中，波長選擇是濾光片類型，但是新產(chǎn)品采用了我們公司具有良好記錄的分光鏡，現(xiàn)在可以選擇任何波長。
膜厚變化的信號是從電壓輸出到與個人計算機兼容的數(shù)字輸出，控制機構(gòu)是從手動操作到個人計算機的命令控制。另外，通過將薄膜厚度計主體通過I / F直接連接到個人計算機來控制其厚度成為可能，這是一個非常緊湊的系統(tǒng)，無需像其他制造商那樣的控制器。
| 模型 | OMD-1000 |
| 光譜儀類型 | 切爾尼·特納（Czerny Turner）類型單單色 |
| 波長范圍 | 保證范圍：380至900 nm可操作 范圍：350至1100 nm |
| 波長分辨率 | 狹縫0.5mm：4.2nm [546nm] 狹縫1.0mm：8.3nm [546nm] |
| 波長精度 | ±1.0納米 |
| 最小波長進給 | 0.1納米 |
| 外部控制 | RS232C |
| 外部輸出端子 | DC0-2V（滿量程） |
| 采樣間隔 | 100ms以上 |
| 靜電放電試驗耐電壓 | ±5kV（實際8kV） |
| 光源 | 12V100W鹵素燈 |
| 光強度穩(wěn)定性 | ±0.1％/ h以下 |
| 輸入電壓 | AC100V 50/60赫茲 |
| 允許輸入電壓 | AC85-132V |
| 視在功率 | 340VA以下 |
| 使用環(huán)境 | 溫度10-35℃ 濕度20-80％ |
