IXRF磁控離子濺射儀MSP-mini的特點(diǎn)

IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini利用磁控電極在低電壓下對樣品濺射金屬靶材，為SEM樣品表面噴鍍金屬鍍層，方便電鏡觀察，而MSP-mini是一款體積小巧，操作簡便，無需通入特殊氣體，使用時(shí)只需設(shè)置噴鍍時(shí)間即可。

主要特點(diǎn)：
1. 陽極磁控型靶材水平裝入：極低的放電電壓減弱樣品受到的例子損傷和熱損傷；
2. 浮動樣品臺設(shè)計(jì)：使電流不通過樣品，溫度上升很少，同時(shí)減弱離子碰撞引起的損傷；
3. 操作簡便：通過定時(shí)器控制從真空排氣到啟動放電電壓的整個(gè)過程。
應(yīng)用領(lǐng)域：
離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高觀測效率，另外可以使用噴碳附件對樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

一鍵自動鍍膜。沒有麻煩的操作。高性價(jià)比機(jī)器。它是MSP-1S的弟弟。
使用小目標(biāo)（φ30mm）。實(shí)現(xiàn)低運(yùn)行成本。Au 靶作為標(biāo)準(zhǔn)包含在內(nèi)。展示其在桌面 SEM 預(yù)處理方面的能力。
可選的目標(biāo)Ag膜具有優(yōu)異的光澤度，便于透明材料表面的光學(xué)顯微鏡觀察。
概述
本設(shè)備是一種帶磁控靶的金屬鍍膜設(shè)備。當(dāng)用光學(xué)顯微鏡（Ag 靶）觀察透明材料的表面或用電子顯微鏡（Au/Ag 靶）在少量樣品上涂導(dǎo)電膜時(shí)使用。